安集科技研究報告：國內(nèi)拋光液龍頭，品類拓展打開空間.pdf

安集科技研究報告：國內(nèi)拋光液龍頭，品類拓展打開空間。【主要邏輯】公司主營CMP拋光液及其他功能性濕電子化學品，是國內(nèi)CMP 拋光液龍頭。下游客戶主要涉及晶圓廠、封裝廠等。目前公司客戶包含中芯 國際、長江存儲、臺積電等頭部晶圓廠以及主流封裝廠。展望未來，公司受 益品類拓展、稼動率回升和擴產(chǎn)持續(xù)。公司目前產(chǎn)品覆蓋面齊全，目前 CMP 拋光液份額在在國內(nèi)企業(yè)中排名第一，同時不斷拓展至功能性濕電子化學 品。目前隨 AI 等下游應用需求回升，主流晶圓廠稼動率逐季度回升，同時 從擴產(chǎn)進度來看，后續(xù)邏輯、存儲廠擴產(chǎn)持續(xù)，半導體材料整體需求提升。

隨制程節(jié)點逐漸升級，拋光液需求料號不斷增加。到先進制程后，CMP 拋 光液的數(shù)量與種類也不斷增加，同時存儲端產(chǎn)品隨層數(shù)增加，所需 CMP 拋 光液數(shù)量也成正比增加，推動 CMP 市場增速高于半導體材料整體增速。根 據(jù) Techcet 統(tǒng)計，至 2026 年全球拋光液市場有望達 26 億美元，2021-2026 年 CAGR 達 6.59%，國內(nèi)市場則受國內(nèi)晶圓產(chǎn)能迅速擴張及國產(chǎn)化率的提 升顯著增長，年復合增長率有望超越全球市場增速。

向濕電子化學品領(lǐng)域延伸，打造半導體材料平臺型公司。半導體濕電子化學 品具有料號多、規(guī)模小、市場分散的特點，其中功能性化學品例如刻蝕液、 清洗液、顯影液等工藝難點及制備流程相似，公司借助多年來對材料配方的 深刻理解，有望向刻蝕液、清洗液、顯影液等領(lǐng)域不斷延伸，成為國內(nèi)高端 濕電子化學材料平臺型龍頭，打開第二成長曲線。