半導體行業研究報告：產業政策持續加碼，國產光刻機任重道遠.pdf

半導體行業研究報告：產業政策持續加碼，國產光刻機任重道遠。光刻機：半導體制造業皇冠上的明珠。光刻機是光刻工藝的核心設備，主要由光 學系統、機械系統和控制系統構成。目前市場上的光刻機主要分為g-line、i-line、 KrF、ArF、EUV五代迭代更新，五代光刻機的主要差異是光刻機的工藝節點， 即限制成品所能獲得的最小尺寸。在光刻機的更新迭代中，對光源、光學透鏡、 反射鏡系統提出了越來越高的要求。根據觀知海內信咨詢，2020年全球光刻機 市場規模為170.9億美元，預計2024年將達315億美元。ASML、Nikon和Canon 三分天下，ASML壟斷高端EUV光刻機市場，Nikon、Canon占據中低端市場。

ASML龍頭地位顯著。ASML在10納米節點以下有100%的市占率，是全球唯一 能夠生產EUV光刻機（極紫外光刻機）的公司，龍頭地位顯著。ASML2023年 營收298億美元，同比增長34%；GAAP凈利潤84.8億美元，同比增長43%。 2023年ASML合計銷售光刻機450臺，其中EUV銷量為53臺。EUV作為光刻 機中的最先進產品，銷售價格持續增長，2023年平均售價為1.91億美元，同比 增長2%。ASML24Q3訂單及25年指引低于預期。

美國產業政策不斷加碼。美國對華芯片產業管制政策不斷加碼。2024年9月5 日，美國商務部工業和安全局（BIS）在《聯邦公報》上發布了一項臨時最終規 則（IFR）。2024年9月6日，荷蘭政府發布有關浸潤式 DUV光刻設備出口的 最新許可證要求，該政策與美國的出口管制要求“對齊”，ASML將需要向荷蘭 政府而非美國政府申請 TWINSCAN NXT：1970i 和1980i型號浸潤式DUV光 刻系統的出口許可證。此外美國BIS發布的IFR升級了對量子計算、先進半導體 制造、GAAFET等相關技術的出口管制。美國眾議院設立的中國問題特別委員會 向半導體設備制造商——KLA、LAM、應用材料、TEL以及ASML發出信函，要 求他們提供對中國的銷售細節。信中明確要求這些公司在2024年12月1日前 提交包括在華前30大客戶的收入情況、對國家安全或貿易限制名單上公司的銷 售記錄，以及任何將生產業務轉移海外的計劃等在內的詳細信息。

光刻機國產化任重道遠。目前國內的IC前道光刻機市場主要被ASML、Nikon 和Canon瓜分。中國大陸光刻機進口金額不斷增長，2023年ASML在中國大陸 銷售額為80.1億美元，同比增長157.6%，ASML為中國大陸光刻機最大的進口 來源。上海微電子是大陸光刻機頭部廠商，其自主研發的600系列光刻機可批 量生產90nm工藝的芯片。但是在技術層面，上海微電子的IC前道光刻機與國 際先進水平差距仍較大，國產光刻機任重道遠。