光刻膠行業(yè)簡析：構(gòu)建自主可控基石，國產(chǎn)替代加速放量.pdf
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- 時(shí)間：2024/10/15
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光刻膠行業(yè)簡析：構(gòu)建自主可控基石，國產(chǎn)替代加速放量。在半導(dǎo)體制造的生態(tài)系統(tǒng)中，光刻機(jī)和光刻膠是兩個(gè)關(guān)鍵 的環(huán)節(jié)，它們共同決定了芯片制造的精度和效率。光刻機(jī) 和光刻膠的競爭將不僅僅是技術(shù)層面的較量，還將涉及供 應(yīng)鏈的安全和自主可控能力。
根據(jù)Gartner的預(yù)測，全球光刻膠市場未來幾年將保持強(qiáng) 勁增長，預(yù)計(jì)到2028年，市場規(guī)模將達(dá)到75億美元，年 復(fù)合增長率（CAGR）約為8.7%。
雖然當(dāng)前高端光刻機(jī)仍依賴于進(jìn)口，但國產(chǎn)光刻膠的市場 占有率正逐步提升，國內(nèi)企業(yè)正在逐步打破國外技術(shù)壟 斷。
國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的高速擴(kuò)張需求，為國產(chǎn)光刻膠創(chuàng)造了更 多的市場機(jī)會。而在另一方面，國際貿(mào)易環(huán)境的不確定性， 也促使國內(nèi)企業(yè)加速自主研發(fā)，減少對外部市場的依賴。
目前，國產(chǎn)光刻膠已經(jīng)在i 線產(chǎn)品上占據(jù)主導(dǎo)，在KrF光 刻膠上占據(jù)相當(dāng)份額，并已實(shí)現(xiàn) ArF光刻膠產(chǎn)品的突破。 國內(nèi)市場光刻膠國產(chǎn)化率尚在20-25%之間，未來增長空間 明顯。
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